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          拋光軌跡對拋光性能的影響有哪些
          
                
          發(fā)布日期： 2019-05-10  瀏覽人數(shù)：
          
            
          
            
          
	       拋光精度，即拋光性能，是平面拋光機采購商及供貨商共同關注的焦點。拋光軌跡是影響拋光性能根本的影響因素。
          

          
	研磨機
          

          
	 
          

          
	　　平面拋光機的拋光軌跡根據(jù)加工工件及加工盤的不同相對運動，有定偏心研磨軌跡、不定偏心研磨軌跡、直線式研磨軌跡、搖擺式研磨軌跡、方形分形研磨軌跡，行星式研磨軌跡等等。
          

          
	 
          

          
	　　定偏心研磨軌跡的工件材料去除均勻性較差，越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直徑不大于200mm的小尺寸工件。其中高精密研磨拋光機就是這種。
          

          
	 
          

          
	　　不定偏心式研磨軌跡，其均勻性明顯好于定偏心式軌跡，有利于工件面形精度的提高。適合于直徑大于200mm的大尺寸工件的加工。量產(chǎn)型鏡面拋光機的研磨拋光軌跡就是這種類型。
          

          
	 
          

          
	　　直線式研磨使用的不是拋光盤，而是具有柔性的砂帶，工件做單純的回轉(zhuǎn)運動。平面研磨拋光機自修整機構(gòu)的刀具在研磨盤上的軌跡也就是這種。此種運動形式簡單，如將研磨帶加長可以形成批量生產(chǎn)，生產(chǎn)效率高。
          

          
	 
          

          
	　　搖擺式研磨軌跡比定偏心雙軸式或直線式研磨更均勻。軌跡在加工面中心呈幾種的趨勢，是工件加工面中心處有凹陷的現(xiàn)象。
          

          
	 
          

          
	　　行星式平面研磨運動軌跡最常見用于雙面研磨機，當改變研磨盤轉(zhuǎn)速和太陽轉(zhuǎn)速之比時，工作效率及材料去除率會發(fā)生變化。
          

          
			
            
          
	
          
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